* Данный текст распознан в автоматическом режиме, поэтому может содержать ошибки

266 IV. СХЕМЫ ПРОМЫШЛЕННЫХ УСТАНОВОК давлением 2—3 атм проходит испаритель 9 разделительной колонны 4', другая часть охлаждается в теплообменнике 5. Затем оба потока в виде флегмы по­ даются в колонну 3. Незначительное количество жидкости из нижней части разделительной колонны 4 подается в дополнительную колонну 10, в кубе которой расположен испаритель / / . В последний поступает сжатый воздух, охлажденный в тепло­ обменнике 6. Из испарителя / / жидкость подается в колонну 3 для орошения. Нриптшповьшконцентрат Рис. 114. Схема установок для получения криптонового концентрата: /—регенераторы; 2—турбодетандер; 3— промывная колсина; 4—раздели­ тельная колонна; 5. 6— теплообменники; 7—компрессер; £—детандер; 9, 11 — испарители; 10—дополнительная колонна. Для предотвращения потерь криптона пары его из колонны 10 отводятся в колонну 4. Накапливающийся в кубе / / концентрат периодически выводится для последующей переработки в чистую криптоно-ксеноновую смесь. Установка для тонкой очистки криптона (рис. 215) Сырой криптон (75—80% криптона -(- кислород) из баллона / напра­ вляется в печь 4. Одновременно в печь 4 из баллона 2 подается водород, который связывает содержащийся в сыром криптоне кислород. Чтобы пред­ отвратить проникновение пламени, на линиях подачи криптона и водорода устанавливаются керамические защитные фильтры 3. Количество подаваемого водорода контролируется в так называемой инди­ каторной печи 6. заполненной смесью меди с окисью меди. В случае избытка водорода черная окись меди восстанавливается в красную медь и наоборот. Таким образом, весь контроль сводится к наблюдению за окраской смеси меди с окисью меди.