* Данный текст распознан в автоматическом режиме, поэтому может содержать ошибки
570
Концентрация напряжения около отверстий
Цилиндрическая оболочка [8, 2 2 , 3 3 ] . К р у г о в о е о т в е р с т и е . Одноосное растяжение. Растяжение вдоль образующей усилиями ингенсивности ph. Т<°> + 7* <°> = ph [ 1 - 2 cos 26 + где Tg
ПА С С
cos 26 ] ,
(44a)
— коэффициент при
Т,Л 1?2
(где / = 0) в разложении Tg в ряд
по е с точностью до е Равномерное внутреннее давление (интенсивность р)
T A l I U r . ^ T L t A
T
i0)
+
т* (°> = qh [ ± + cos26 + п$ ( 1 +
2
C0S26)]
,
(446) где
9 =
Э л л и п т и ч е с к о е о т в е р с т и е [ 8 ] . Равномерное внутрен нее давление (интенсивность р) для эллиптического отверстия
го =
а-- b
а—Ь в~ а+ Ь
у
где Й и Ь — полуоси эллипса. Коэффициент концентрации л при 0 = 0 и 6 = -~- будет
k=
«_
2
= -L — 2
2
~ л-2( ~ а+ b а+ 6 / а-- 6
а ь а Ь
2
(45)
яВ* Г
.
-< — з
в = 0
Из формул (45) видно, что ( Л ) отношения
и (Л)
существенно зависят от того, зави
а коэффициент концентрации (/fe) & Р
e=0 к
о м е
сит и от радиуса R оболочки. Кривизна оболочки оказывает существенное влияние на концентра цию усилий при 6 = 0 , так при b в оболочке увеличивается на 34% по сравнению с пластинкой, а при ~ - - - г ^ — - лишь на 2 5 % . о 1,6 = 1,3 коэффициент концентрации k
